Anwendungen

Charakterisierung optischer EUV-Komponenten bei der Wellenlänge, z. B. von Mehrschichtspiegeln, Masken oder Filtern
Off-Synchrotron-Kalibrierung von EUV-Werkzeugen, z. B. Spektrographen und Energiemonitoren
EUV-Abbildung und -Mikroskopie mit hoher lateraler Auflösung