Die Charakterisierung und Qualitätskontrolle von Multilayer-Spiegeln, Masken und optischen Komponenten für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie erfordert eine kompakte, stabile und debrisfreie Lichtquelle. Die Laser nanoFab GmbH bietet eine solche Lichtquelle für die Metrologie an, die auf der elektroneninduzierten charakteristischen Emission von festen Targets basiert.
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