EUV Metrology
Technologie
Die Charakterisierung und Qualitätskontrolle von Multilayer-Spiegeln, Masken und optischen Komponenten für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie erfordert eine kompakte, stabile und debrisfreie Lichtquelle. Die Laser nanoFab GmbH bietet eine solche Lichtquelle für die Metrologie an, die auf der elektroneninduzierten charakteristischen Emission von festen Targets basiert.
Ihre Aufgabenstellung
Sie wollen empfindliche optische Elemente wie Spiegel oder Filter im EUV-Spektralbereich charakterisieren?
Eine Beschädigung der Optik durch Partikel und Trümmer muss vermieden werden?
Die Strahlungsquelle soll langzeitstabil, präzise und kompakt sein?
Unsere Expertise
Die EUV-Röhre der Laser nanoFab GmbH ist eine kompakte und benutzerfreundliche Extrem-Ultraviolett (EUV)-Quelle für die Metrologie. Die Quelle basiert auf fortschrittlicher Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie, die auf den EUV-Spektralbereich erweitert wurde. Die EUV-Emission wird durch die Kollision von Elektronen mit Festkörpertargets erzeugt. Dieses Konzept garantiert einen kontaminationsfreien Betrieb, gut definierte Leistungsmerkmale und eine ausgezeichnete zeitliche und räumliche Langzeitstabilität.
Anwendungen
- Charakterisierung optischer EUV-Komponenten bei der Wellenlänge, z. B. von Mehrschichtspiegeln, Masken oder Filtern
- Off-Synchrotron-Kalibrierung von EUV-Werkzeugen, z. B. Spektrographen und Energiemonitoren
- EUV-Abbildung und -Mikroskopie mit hoher lateraler Auflösung