EUV Metrology
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Technologie
Die Charakterisierung und Qualitätskontrolle von Multilayer-Spiegeln, Masken und optischen Komponenten für die Extrem-Ultraviolett-Lithographie erfordert eine kompakte, stabile und debrisfreie Lichtquelle. Die Laser nanoFab GmbH bietet eine solche Lichtquelle für die Metrologie an, die auf der elektroneninduzierten charakteristischen Emission von festen Targets basiert.
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Ihre Aufgabenstellung
Sie wollen empfindliche optische Elemente wie Spiegel oder Filter im EUV-Spektralbereich charakterisieren?
Eine Beschädigung der Optik durch Partikel und Trümmer muss vermieden werden?
Die Strahlungsquelle soll langzeitstabil, präzise und kompakt sein?
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Unsere Expertise
Die EUV-Röhre der Laser nanoFab GmbH ist eine kompakte und benutzerfreundliche Extrem-Ultraviolett (EUV)-Quelle für die Metrologie. Die Quelle basiert auf fortschrittlicher Mikrofokus-Röntgenröhrentechnologie, die auf den EUV-Spektralbereich erweitert wurde. Die EUV-Emission wird durch die Kollision von Elektronen mit Festkörpertargets erzeugt. Dieses Konzept garantiert einen kontaminationsfreien Betrieb, gut definierte Leistungsmerkmale und eine ausgezeichnete zeitliche und räumliche Langzeitstabilität.
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Anwendungen
- Charakterisierung optischer EUV-Komponenten bei der Wellenlänge, z. B. von Mehrschichtspiegeln, Masken oder Filtern
- Off-Synchrotron-Kalibrierung von EUV-Werkzeugen, z. B. Spektrographen und Energiemonitoren
- EUV-Abbildung und -Mikroskopie mit hoher lateraler Auflösung