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M4D - Systeme zur Zwei-Photonen-Polymerisation

Das direkte Laserschreiben durch Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) von Photoresisten ist eine junge Technik für die schnelle und flexible Herstellung vollständig dreidimensionaler (3D) Strukturen mit Strukturgrößen von bis zu unter 100 nm. Das M4D-Mikro- und Nanostrukturierungssystem ermöglicht die Hochgeschwindigkeitserzeugung von 2D- und 3D-Mikro- und Nanostrukturen über große Flächen und Volumina.

Anwendungen

  • Mikrofluidik
  • Biologie
  • Medizin
  • Mikorooptik
  • Mikromechanik
  • 3D Freiformstrukturierung
  • 2D Oberflächenstrukturierung

TECHNOLOGIEN

  • Polymerisation von Photoresisten mit Femtosekundenlaser
  • Submikrometer-Auflösung mit Zwei-Photonen-Polymerisation
  • Mikro- und Nanostrukturierung

MATERIALIEN

  • Unsere optimierte Materialserie für 2PP: femtoBond®
  • Standard-Fotoresists für die Lithografie
  • Biologisch abbaubare und biokompatible Photoresists

FAKTEN

  • Rapid Prototyping von Nanometer bis Millimeter
  • Schlüsseltechnologie für 3D-Nano-Rapid-Prototyping
  • Für Forschung und Entwicklung

PARAMETER

Auflösung

100nm – 100µm

Positioniergeschwindigkeit (typisch)

bis 50 mm/s

Scangeschwindigkeit (typisch)

bis 1 m/s

Bauraum

10cm x 10cm x 10cm

Lasertypen

Ultrakurzpulslaser

System

Offenes Design, kundenspezifische
Anpassungen möglich

Stellfäche

ca. 1 m²


Konfigurationsbeispiel

Laserausgangsleistung

>0,7 W

Pulslänge

< 100 fs

Wellenlänge

515 nm

Repetitionsrate 

75 MHz ± 1

Linearachsen

luftgelagert

bidirektionale Wiederholbarkeit

< ±0,075 µm

Geschwindigkeit (ohne Last)

(XY) 2m/s , (Z) 1m/s

Objektiv

NA 0.5

2PP-Strukturhöhe (Z) 

WOW-2PP vorbereitet, Aufbau­höhe in Z nur durch Laufweg der Z-Achse beschränkt

Software

erweiter­bar durch eigene Visual Studio Module

 

Andere Konfigurationen verfügbar.

 

 

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